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本儀器采用非接觸、光學相移干涉測量方法，測量時不損傷工作表面，能快速測得各種工作表面微觀形貌的立體圖形，并分析計算出測量結果。適用于測量各種量塊、光學零件表面的粗糙度；標尺、度盤的刻線深度；光柵槽形結構；鍍層厚度和鍍層邊界處的結構形貌；磁（光）盤、磁頭表面結構測量；硅片表面粗糙度及圖形結構測量等。儀器測量精度高，重復性好，具有非接觸和三維測量的特點，并采用計算機控制和快速分析、計算測量結果。本儀器適用于各級測量、計算研究單位，工礦企業計量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學研究單位。
技術參數
表面微觀不平深度測量范圍：1000nm~1nm
測量的重復性：δRa≤0.5nm
測量精度：8nm
物鏡倍率：40×
數值孔徑：0.65
儀器視場：目視φ0.25mm；攝像0.13×0.13mm
儀器放大倍數：目視500×；攝像（計算機屏幕觀察）：2500×
接收器測量陣列：1000×1000
像數尺寸：5.2×5.2μm
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咨詢熱線：
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|  | | | WGL | | 評定參數 | | | 測量范圍 | | | 觸針位移 | | | 分辨率 | | | 顯示方式 | | | 打印機形式 | | | 儀器總誤差 | | | 取樣長度 | | | 測量長度 | | | 測量速度 | | | 儀器外接電源 | | | 儀器外形 | | | 儀器重量 | | | 備注 | | | 產品介紹 | 本儀器采用非接觸、光學相移干涉測量方法，測量時不損傷工作表面，能快速測得各種工作表面微觀形貌的立體圖形，并分析計算出測量結果。適用于測量各種量塊、光學零件表面的粗糙度；標尺、度盤的刻線深度；光柵槽形結構；鍍層厚度和鍍層邊界處的結構形貌；磁（光）盤、磁頭表面結構測量；硅片表面粗糙度及圖形結構測量等。儀器測量精度高，重復性好，具有非接觸和三維測量的特點，并采用計算機控制和快速分析、計算測量結果。本儀器適用于各級測量、計算研究單位，工礦企業計量室，精密加工車間，也適用于高等院校和科學研究單位。
技術參數
表面微觀不平深度測量范圍：1000nm~1nm
測量的重復性：δRa≤0.5nm
測量精度：8nm
物鏡倍率：40×
數值孔徑：0.65
儀器視場：目視φ0.25mm；攝像0.13×0.13mm
儀器放大倍數：目視500×；攝像（計算機屏幕觀察）：2500×
接收器測量陣列：1000×1000
像數尺寸：5.2×5.2μm
| | 產地 | China | | |
或電話：
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